多靶磁控溅射设备
2018/3/27 中国科学院科技产业网

     技术领域：电子信息技术,先进制造技术应用领域：新材料,装备制造

     主要特点 ●灵活搭配国内外各种真空系统：德国莱宝、安捷伦、中科科仪等品牌真空泵； ●先进的压力控制系统，波动小、稳定性高； ●结构设计紧凑，重量轻，占地面积小，运输、安装方便； ●可溅射金属、无机物，镀膜精度可达到nm量级。 应用领域 表面镀膜、新材料制备等领域。

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