工业化硬质涂层制备装置及涂层工艺技术
2018/4/2 中国科学院科技产业网

     成果名称

     工业化硬质涂层制备装置及涂层工艺技术

     应用领域

     新材料

     技术领域

     新材料及其应用

     技术简介

     本项目研制出基于HIS技术和闭合场非平衡磁控溅射方法的大功率离子镀膜装置，开发出新型纳米硬质复合薄膜制备工艺技术，可用于制备多种复合硬质涂层。技术指标 ①最大溅射功率4′5 kW；②背底真空度￡10P-5P Pa；③磁控溅射靶4个；④工件对地单极性脉冲负偏压0～1 kV可调；⑤溅射温度：室温～450℃可调；⑥三轴联动的工具架。涂层主要技术指标：①涂层厚度3～5微米；②涂层硬度330 GPa；③涂层最高工作温度3900℃。

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